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国家标准《三维集成电路 第1部分:术语和定义》正式实施 |
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本文件界定了基于硅通孔(TSV)或凸点实现堆叠芯片的多芯片集成电路的术语和定义。本文件适用于基于硅通孔(TSV)或凸点实现堆叠芯片的多芯片集成电路的制造和测试。 标准编号:GB/T 43536.1-2023 中文名称:三维集成电路 第1部分:术语和定义 英文名称:Three dimensional integrated circuit—Part 1:Terminologies and definitions ICS:31.200 CCS:L55 代替标准: 引用标准: 采用标准:IEC 63011-1:2018《集成电路 三维集成电路 第1部分:术语》 IDT 等同采用 发布日期:2023-12-28 实施日期:2024-04-01 提出部门:中华人民共和国工业和信息化部 归口单位:全国半导体器件标准化技术委员会(SAC/TC 78) 发布部门:国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会 起草单位:中国电子技术标准化研究院、华进半导体封装先导技术研发中心有限公司、电子科技大学、池州华宇电子科技股份有限公司、中国科学院微电子研究所、中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所、珠海越亚半导体股份有限公司 起草人:李锟、肖克来提、彭博、彭勇、高见头、吴道伟、陈先明 |
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