各会员单位及有关单位：
兹定于2010年7月20日～23日在宁波市好丽登国际商务酒店（宁波北仑长江路1号）召开半导体材料标准工作会。会上将对13项半导体材料标准进行审定和讨论。请相关单位派代表按时参加会议（标准起草单位需携带至少30份有关标准资料）。
一、会议内容
会议将对《关于硅片平坦表面的表面粗糙度的测量指南》1项国家标准和《高纯砷》等5项行业标准进行审定，将对《电子级三氯氢硅》等7项国家标准和行业标准进行讨论。具体项目名称及负责起草单位见附件。
请以上项目的负责起草单位和参加起草单位务必参加会议，同时也请各用户单位及其他单位参加会议、提出意见。
二、会议报到
1、报到时间：2010年7月20日。
2、报到地点：宁波北仑长江路1号 好丽登国际商务酒店。
三、会议资料
各标准负责起草单位请于7月9日前将标准稿的电子文本发送至标委会秘书处电子信箱（cnsm@263.net），由秘书处挂网征求意见。相关单位可在有色金属标准所网站（www.cnsmq.com）下载标准稿。
附件：审定和讨论项目名称及主要起草单位
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序号 |
名称 |
制/修订 |
主起草单位 |
备注 |
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第一组 |
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1. |
关于硅片平坦表面的表面粗糙度的测量指南 |
制定 |
有研半导体材料股份有限公司 |
审定 |
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2. |
电子级三氯氢硅 |
制定 |
南京锗厂有限责任公司 |
讨论 |
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3. |
电子级三氯氢硅化学分析方法 电感耦合等离子体质谱仪测定钴、铬、铜、铁、锰、镍、钒、硼、铝、磷、钼、砷和锑量 |
制定 |
南京锗厂有限责任公司 |
讨论 |
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4. |
再生硅料分类和技术条件 |
制定 |
西安隆基硅材料股份有限公司 |
讨论 |
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5. |
硅片平整度、厚度及厚度变化测试 自动非接触扫描法 |
制定 |
上海合晶硅材料有限公司 |
讨论 |
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第二组 |
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6. |
高纯砷化学分析方法 孔雀绿分光光度法测定锑量 |
修订YS/T 34.1-1992 |
峨眉半导体材料厂 |
审定 |
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7. |
高纯砷化学分析方法 化学光谱法测钴、锌、银、铜、钙、铝、镍、铬、铅、镁、铁量 |
修订YS/T 34.2-1992 |
峨眉半导体材料厂 |
审定 |
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8. |
高纯砷化学分析方法 极谱法测定硒量 |
修订YS/T 34.3-1992 |
峨眉半导体材料厂 |
审定 |
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9. |
高纯砷化学分析方法 极谱法测定硫量 |
修订YS/T 34.4-1992 |
峨眉半导体材料厂 |
审定 |
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10. |
高纯砷 |
修订YS/T 43-1992 |
峨眉半导体材料厂 |
审定 |
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11. |
高纯铟 |
修订YS/T 264-1994 |
南京锗厂有限责任公司 |
讨论 |
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12. |
单晶锗单位产品能源消耗限额 |
制定 |
南京锗厂有限责任公司 |
讨论 |
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13. |
锗单位产品能源消耗限额 |
制定 |
云南临沧鑫圆锗业股份有限公司 |
讨论 |
二O一O年六月十八日 |
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